半导体晶圆制备中位错缺点的状态和散布情况对电子元器件的机能有较大影响,,,由于掺杂资料、制备工艺的分歧,,,位错散布也分歧。。。本设备用于查抄晶圆位错状态和散布,,,为晶圆资料钻研、改进制备工艺提供数据支持。。。 合用于2吋、3吋、4吋和6吋砷化镓衬底。。。
| 项目 | 机能指标 |
| 检测项目 | 通过机械视觉检测技术检测衬底是否存在位错缺点,,,并对位错缺点进行计数 |
| 位错特点:菱形有长短轴位错、玄色六边形位错等 | |
| 卡控要求 | 1、≤5000 个/cm2,,,即每平方厘米的视场要求小于5000个位错,,,大于5000个为异常 |
| 2、计数方式: (1)整片成像:对整片衬底全面成像,,,再逐点推算位错数量;; (2)69点成像:用相机成像69个1毫米长宽的点,,,再推算位错数量,,,再统计均匀值和单点最大值两个数值;; |
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| 位错鉴别 | 位错特点为菱形有长短轴或者深玄色类似六边形等,,,非这类特点的不列入计数;;别的巨细靠近的位错列入计数。。。检出大块区域位错时,,,重点弹窗提醒。。。 |
| 光学精度 | 1um/Pixel |
| 计数误差 | ≤±3%(不蕴含抽样误差) |
| 后续随着检测样本量的增多,,,计数误差将逐步减小 | |
| 检测速度 | 4吋衬底69点功夫:≤50秒 |
| 4吋衬底整片功夫:≤10分钟 |
